在洗苯脫苯的操作過(guò)程中，循環(huán)洗油的質(zhì)量逐漸惡化，為保證洗油質(zhì)量采用洗油再生器將部分熱貧油進(jìn)行洗油再生。同其他焦化廠工藝一樣，洗油再生流程也存在著大量危險(xiǎn)有害因素，那么焦化廠洗油再生流程危險(xiǎn)...

乙酸作為一種重要的有機(jī)化工原料，廣泛用于醫(yī)藥、燃料、化纖、紡織、電子等工業(yè)。乙酸的合成方法繁多，其中以乙烯為原料、氣相工藝氧化合成乙酸的工藝具有乙烯原料來(lái)源廣泛、工藝簡(jiǎn)單、裝置建設(shè)費(fèi)用...

作為高爐鋼鐵冶煉高爐原料系統(tǒng)的重要組成部分之一，高爐礦焦槽的主要是供給爐料進(jìn)行反應(yīng)和還原，鐵礦石是主要的鐵原料，焦炭的作用是提供熱量和還原劑，石灰石則用來(lái)分解爐內(nèi)產(chǎn)生的硅酸化合物。由于設(shè)備...

作為火力發(fā)電廠燃料系統(tǒng)搬運(yùn)轉(zhuǎn)移的重要設(shè)備之一，卸煤裝置主要的主要功能作用就是將火車或船舶運(yùn)送到火電廠的煤炭燃料卸出，根據(jù)來(lái)料運(yùn)載工具的不同主要分為卸車機(jī)和卸船機(jī)兩種。銅其他運(yùn)煤系統(tǒng)一樣...

光解水制氫是一種將水分子分解為氫和氧氣的過(guò)程，可以通過(guò)光能來(lái)促進(jìn)反應(yīng)，光解水制氫可以避免使用化石燃料，因此被認(rèn)為是一種非常環(huán)保的氫氣生產(chǎn)方法。但是在整個(gè)光解水制氫工藝過(guò)程中，很難完全將氫氣...

作為污水處理過(guò)程中的重要組成部分，污泥濃縮池主要是將污水中的固體顆粒沉淀下來(lái)，使水變得清澈透明，以便進(jìn)行后續(xù)的處理和處理過(guò)程中的減量。但是由于在污泥濃縮過(guò)程中污泥中細(xì)菌微生物的作用，現(xiàn)場(chǎng)同...

作為電子工業(yè)中重要的的摻雜技術(shù)之一，離子注入工藝主要是離子注入氣在100keV電離后射入半導(dǎo)體表面，以實(shí)現(xiàn)改變半導(dǎo)體表面材料性能尤其是MOSFET閾值電壓的功能。在進(jìn)行離子注入時(shí)，需要使用到摻雜源離...

作為醫(yī)院常見(jiàn)的氣體之一，氧氣的重要性不言而喻，不同的醫(yī)院及醫(yī)療機(jī)構(gòu)的氧氣源使用也是不同的，一般常見(jiàn)的有分子篩制氧機(jī)房、壓縮氧氣瓶間、液氧貯罐等。由于閥門口、密封面、設(shè)備連接處、法蘭等存在...

作為焦?fàn)t煤氣脫苯后的副產(chǎn)之一，貧油其實(shí)就是脫除溶質(zhì)的洗油，同時(shí)也是屬于煤焦油的精制品。洗油會(huì)將含苯煤氣中的苯系物溶解帶走形成富油，然后在解吸塔中利用高溫水蒸氣苯系物脫除后，剩余的油就稱之為...

乙烯生產(chǎn)裝置的核心設(shè)備是乙烯裂解爐，主要作用是把天然氣、煉廠氣、原油及石腦油等各類原材料加工成裂解氣，并提供給其它乙烯裝置，最終加工成乙烯、丙烯及各種副產(chǎn)品，同其他石油化工工序一樣，乙烯裂解...

作為清除鋼鐵冶煉過(guò)程中所產(chǎn)生的粉塵和廢氣的除塵設(shè)備的重要組成部分之一，除塵器卸灰平臺(tái)主要用于收集和處理除塵器中的灰塵和污染物，以保證生產(chǎn)環(huán)境的清潔和安全，有效地減少工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的粉...

作為火力發(fā)電廠的燃料來(lái)源，運(yùn)煤系統(tǒng)主要是將煤礦中的煤炭處理分類后，集中運(yùn)送并貯存在儲(chǔ)煤場(chǎng)，以供鍋爐燃燒使用。一般是使用翻車機(jī)或卸車機(jī)將煤炭卸下后使用碎煤機(jī)粉碎，然后在通過(guò)帶式輸送機(jī)將粉煤轉(zhuǎn)...

作為工業(yè)副產(chǎn)制氫的重要方法之一，氯堿副產(chǎn)制氫是以食鹽水為原料，采用離子膜或石棉隔膜電解槽生產(chǎn)燒堿和氯氣，同時(shí)可以得到純度約為98.5%的副產(chǎn)品氫氣，然后再采用PSA技術(shù)提純制取氫氣。但是在整個(gè)氯堿...

作為污水處理過(guò)程中的重要工藝方法之一，過(guò)濾池主要用于將污水中的難以利用沉淀去除掉的固定及液體污染物質(zhì)進(jìn)行脫除，既可用于污水經(jīng)沉淀池后的第二階段水處理，也可單獨(dú)進(jìn)行過(guò)濾處理工序。由于在進(jìn)行...

作為半導(dǎo)體制造過(guò)程中的關(guān)鍵技術(shù)之一，芯片蝕刻主要是利用化學(xué)反應(yīng)來(lái)蝕刻掉芯片表面不需要的部分，以實(shí)現(xiàn)芯片電路的制造。以常見(jiàn)的干法等離子體蝕刻為例，主要是使用了具有等離子放電特性的電子特氣，但...